特許
J-GLOBAL ID：200903063167410119
エレクトロルミネツセンス素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-154932
公開番号（公開出願番号）：特開平5-003076
出願日： 1991年06月26日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】パターン不良の発生の少ないEL素子を簡素な工程で製造する。【構成】 透明基板上における互いに対向するカソード電極と透明なアノード電極との電極対の複数と電極対間に配置されたEL層とを有し、EL層の電極対によって挾まれる複数の部分を発光領域とするEL素子の製造方法であって、アノード電極、EL層及び金属層を形成後、集光レーザビームの焦点を金属層内に位置させつつ集光レーザビームを走査して、金属層の一部を切削してアノード電極と交差する複数の帯状カソード電極を互いに平行に形成するカソード電極形成工程とを含む。
請求項（抜粋）：
基板上における互いに対向する複数のカソード電極及びアノード電極の電極対と前記電極対間に配置されたエレクトロルミネッセンス層とを有し、前記エレクトロルミネッセンス層の前記電極対によって挾まれる複数の部分を発光領域とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に第1電極材料層からなる複数の帯状アノード電極を互いに平行に形成するアノード電極形成工程と、前記アノード電極上にエレクトロルミネッセンス層を成膜するエレクトロルミネッセンス層形成工程と、前記エレクトロルミネッセンス層上に第2電極材料層を成膜する第2電極材料層形成工程と、集光レーザビームの焦点を前記第2電極材料層内に位置させつつ集光レーザビームを走査して、前記第2電極材料層の一部を切削して前記アノード電極と交差する複数の帯状カソード電極を互いに平行に形成するカソード電極形成工程とを含むことを特徴とする製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H05B 33/22
, H05B 33/26
