特許

J-GLOBAL ID：200903063169509260

カバーコート装着法及びパターン形成方法

発明者： 今井 玄児 ,  岩沢 直純 ,  橋本 定明
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-288661
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120930
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】 感光性レジストに、高解像度で酸素による感光性の低下がなく、微細画像パターン形成能を与えるカバーコート装着法及びそのカバーコートされた感光性レジストを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】 支持フィルム上に、常温で実質的に粘着性をもたず、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層を形成した転写フィルムの該非感光性被膜面を、常温で粘着性のある感光性被膜層を形成した基板上の該感光性被膜層上に密着させた後、支持フィルムを剥離し、非感光性被膜層を感光性被膜層に転写してカバーコートとすることを特徴とするカバーコート装着法、及びそのカバーコートされた感光性レジストを用いたパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

支持フィルムと、その上に形成された、常温で実質的に粘着性をもたず、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層からなる転写フィルムの該非感光性被膜面を、常温で粘着性のある感光性被膜層を有する基板の該感光性被膜層上に密着させた後、支持フィルムを剥離し、非感光性被膜層を感光性被膜層に転写してカバーコートとすることを特徴とするカバーコート装着法。

IPC (4件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 感光性転写シートの製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-156738   出願人：コニカ株式会社
• 感光性樹脂版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-203824   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開平1-287671