弾性表面波装置及びその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046796
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242800
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】IDT電極指のピッチの異なる複数種のSAW素子を、フォトリソグラフィー工程を含む製法で作製する際に、各々の最適露光量を設定して同時露光し設計値通りに作製可能とする。【解決手段】ポジ型のレジスト膜を圧電基板3上に形成する工程とフォトリソグラフィー工程とを含む製法により、2種類のSAWフィルタを同一の圧電基板3上に形成する場合、圧電基板3上のIDT電極4以外の領域に、フィトマスクのネガパターンに相当する複数の非形成部7を持った露光部構成用被膜6を形成するに際して、電極指のピッチが大きいSAWフィルタの周囲の非形成部7の面積比率を、電極指のピッチが小さいSAWフィルタの周囲の非形成部7の面積比率よりも大きくする。

請求項（抜粋）：

一対の櫛歯状電極を有し、前記櫛歯状電極の少なくとも電極指のピッチがそれぞれ異なった複数種の弾性表面波素子を同一の圧電基板上に設けて成る弾性表面波装置であって、前記圧電基板上の櫛歯状電極以外の領域に複数の非形成部を分布させた露光部構成用被膜が形成されており、前記非形成部と露光部構成用被膜部との面積比率を(非形成部の面積)/(非形成部の面積+露光部構成用被膜部の面積)×100とした場合、ピッチが大きい電極指をもった弾性表面波素子の周囲に設けた露光部構成用被膜部での前記面積比率を、ピッチが小さい電極指をもった弾性表面波素子の周囲に設けた露光部構成用被膜部での前記面積比率より大きくしたことを特徴とする弾性表面波装置。

IPC (3件)：

H03H 9/64 , H03H 3/08 , H03H 9/25

FI (3件)：

H03H 9/64 Z , H03H 3/08 , H03H 9/25 Z

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