特許
J-GLOBAL ID：200903063222654219
液晶表示素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-257911
公開番号（公開出願番号）：特開平9-101493
出願日： 1995年10月04日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：
【要約】【課題】 表示むらが生じるのを可及的に防止する。【解決手段】 透明な基板2上に電極3及び配向膜4を形成する工程と、配向膜が形成された基板1上にスペーサ6とフォトレジスト7の混合層を形成する工程と、フォトレジストの膜厚がスペーサの径にほぼ等しくなるように前記混合層を加圧し、露光する工程と、混合層を現像する工程と、を備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明な基板上に電極及び配向膜を形成する工程と、前記配向膜が形成された基板上にスペーサとフォトレジストの混合層を形成する工程と、前記フォトレジストの膜厚が前記スペーサの径にほぼ等しくなるように前記混合層を加圧し、露光する工程と、前記混合層を現像する工程と、を備えていることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101
, G02F 1/1339
G02F 1/13 101
, G02F 1/1339
