特許
J-GLOBAL ID：200903063223342369
エッチングあるいはコーティング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-165369
公開番号（公開出願番号）：特開平5-171470
出願日： 1991年07月05日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】【目的】 出来るだけ構造がコンパクトで、従来の欠点を除去したエッチングあるいはコーティング装置を得る事を目的とする。【構成】 真空レシーバー(1)とレシーバー(1)内に容量的にプラズマを発生させる互いに離れた1対の電極(5、9)とを有するエッチングあるいはコーティング装置において、レシーバーを包み込む壁(3)が互いに絶縁された(7)2つの部分(5、9)に分割され、両部分は内側に位置し電極面(FA 、FB)として用いられる面に電気的に信号を伝達するのに用いられ、その場合にレシーバーの壁(3)の分割によってどの電極(5、9)がエッチングされ、ないしはどれがコーティングされるかが制御され、並びにプラズマ放電の点火あるいは間欠的駆動が行われる。
請求項（抜粋）：
真空レシーバー(1、20)と、真空レシーバー内で容量的にプラズマ放電を発生させる互いに離れた1対の電極(5、9;17、19;17a、19a、17b、19b)とを備えたエッチングあるいはコーティング装置において、レシーバーを包囲する壁(3)が互いに絶縁された(7)2つの部分(5、9)に分割され、両者が電極面(FA 、FB )として用いられる内側の面に電気的に信号を伝達するのに用いられ、どちらの電極(5、9)がエッチングされるか、ないしはどちらの電極がコーティングされるか、がレシーバーの壁(3)の分割と共に制御されることを特徴とするエッチングあるいはコーティング装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, C23C 14/32
, H01L 21/302
