特許

J-GLOBAL ID：200903063227984020

光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置

発明者： 藤井 岳直
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 塩野入 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-117516
公開番号（公開出願番号）：特開2007-292476
出願日： 2006年04月21日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】光学顕微鏡によって検出した分析位置におけるX線分析において、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを要することなくX線分析を行う。【解決手段】光学顕微鏡の対物レンズと、X線分析装置のX線発生器とを、同一光軸上で切り換え自在とすることによって、光学顕微鏡によって検出した分析位置に対して、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを行うことなく、同じ試料位置のままでX線発生器からの一次X線を照射し、試料から放出される特性X線を検出しX線分析する。複合装置1は、光学顕微鏡系2とX線分析系3とを備えると共に、光学顕微鏡系2とX線分析系3が共有する回転自在のレボルバ5を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料ステージ側に向かってレーザ光を照射する光源と、対物レンズと、光学像を観察する光学像観察部とを有する光学顕微鏡装置と、 試料ステージ側に向かって一次X線を照射するX線発生器と、試料から発生する特性X線を検出するX線検出器とを有するX線分析装置と、 前記光学顕微鏡装置と前記X線分析装置が共有する回転自在のレボルバを備え、 前記レボルバに対して、前記対物レンズおよびX線発生器を、レボルバの回転により切り換え自在に設けたことを特徴とする、光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。

IPC (2件)：

G01N 23/223 ,  G21K 7/00

FI (2件)：

G01N23/223 ,  G21K7/00

Fターム (23件)：

2G001AA01 ,  2G001AA07 ,  2G001AA10 ,  2G001BA04 ,  2G001BA15 ,  2G001BA30 ,  2G001CA01 ,  2G001CA07 ,  2G001CA10 ,  2G001DA01 ,  2G001EA03 ,  2G001GA04 ,  2G001GA08 ,  2G001GA13 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA01 ,  2G001JA06 ,  2G001KA01 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  2G001QA01 ,  2G001SA29