特許
J-GLOBAL ID：200903063248446495
所定濃度の混合ガスを製造する方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098714
公開番号（公開出願番号）：特開平7-306720
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】 2種類以上のガスを一定の濃度で混合する方法及び装置【構成】 第1流体に対して第2流体を所定比率で混合する装置であり、第1流体が流通する第1流路、第2流体が流通する第2流路、第1流体のガス流量を検出する手段、第1流体の流量に基づく信号を発生する手段、その手段からの信号により第2流体のガス流量をリアルタイムでコントロールするコントロール手段を含み第2流体の流量はy=axb +c(式中xは、第1流体の流量、yは第2流体の流量、a及びbおよびcは第2流体対第1流体の比によって変化するが、2つの流体の一定の比率においては、実験的に求められた定数である)に従ってコントロールされる2つの流体を所定比率で混合する装置。
請求項（抜粋）：
第1流体に対して第2流体を所定比率で混合する装置であり、第1流体が流通する第1流路、第2流体が流通する第2流路、第1流体のガス流量を検出する手段、第1流体の流量に基づく信号を発生する手段、その手段からの信号により第2流体のガス流量をリアルタイムでコントロールするコントロール手段を含み第2流体の流量はy=axb +c(式中xは、第1流体の流量、yは第2流体の流量、a及びbおよびcは第2流体対第1流体の比によって変化するが、2つの流体の一定の比率においては、実験的に求められた定数である)に従ってコントロールされる2つの流体を所定比率で混合する装置。
IPC (3件)：
G05D 11/13
, B01F 3/02
, B01F 15/04
