特許
J-GLOBAL ID：200903063248846027
印刷用凹版およびその製造方法ならびに印刷方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-121608
公開番号（公開出願番号）：特開平5-309962
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：
【要約】【目的】 微細な線幅と厚さの転写印刷ができる印刷用凹版およびその製造方法ならびに印刷方法を得ることを目的とする。【構成】 支持体3上に配設されたシリコーンゴム層2上に貫通孔4を有する基材層1を形成し、貫通孔4の内壁4aをシリコーンゴム壁面層5で被覆して印刷用凹版を形成し、貫通孔4に形成された凹部にインキ6を充填し、印刷用凹版に被印刷体を圧接してインキ6を被印刷体上に印刷することにより、シリコーンゴムの離型性と溶剤吸収性でインキ6の全量を被印刷体上に転写することができるとともに、微細な線幅と厚さの転写印刷ができる。
請求項（抜粋）：
貫通孔を有する基材層と、前記基材層上に形成されたシリコーンゴム層と、前記貫通孔の内壁面を被覆するシリコーンゴム壁面層とからなる印刷用凹版。
IPC (3件)：
B41N 1/06
, B41M 1/10
, H05K 3/12
