特許
J-GLOBAL ID:200903063249155222

ハイドロリック装置と制御装置との配置ならびにハイドロリック装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-104231
公開番号(公開出願番号):特開2002-339901
出願日: 2002年04月05日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 付加的な圧力密な線路が必要となることなく、センサと制御装置との接続が形成され得るような、ハイドロリック装置と制御装置との配置を提供する。【解決手段】 ハイドロリックチャンバ14内に可動のエレメント16を有する、ハイドロリックハウジング10に配置されたハイドロリックエネルギ蓄え器12と、誘導式の変位センサ18と、該誘導式の変位センサに結合された、該誘導式の変位センサへ可動のエレメント16の運動を伝達するための手段20とを有するハイドロリック装置と、誘導式の変位センサ18の信号を受け取る制御装置22との配置において、誘導式の変位センサ18が直接に制御装置22に取り付けられている。
請求項(抜粋):
ハイドロリックチャンバ(14)内に可動のエレメント(16)を有する、ハイドロリックハウジング(10)に配置されたハイドロリックエネルギ蓄え器(12)と、誘導式の変位センサ(18)と、該誘導式の変位センサ(18)に結合された、該誘導式の変位センサ(18)へ前記可動のエレメント(16)の運動を伝達するための手段(20)とを有するハイドロリック装置と、前記誘導式の変位センサ(18)の信号を受け取る制御装置(22)との配置において、前記誘導式の変位センサ(18)が直接に制御装置(22)に取り付けられていることを特徴とする、ハイドロリック装置と制御装置との配置。
IPC (3件):
F15B 1/24 ,  F15B 1/02 ,  B60T 17/00
FI (3件):
F15B 1/02 Z ,  B60T 17/00 D ,  F15B 1/053
Fターム (16件):
3D049BB34 ,  3D049CC02 ,  3D049HH13 ,  3D049HH20 ,  3D049HH47 ,  3D049KK17 ,  3D049RR05 ,  3H086AA24 ,  3H086AB03 ,  3H086AB04 ,  3H086AD07 ,  3H086AD15 ,  3H086AD16 ,  3H086AD35 ,  3H086AF12 ,  3H086AF22

前のページに戻る