特許
J-GLOBAL ID：200903063249991748
エキシマレーザ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234772
公開番号（公開出願番号）：特開平6-169119
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、エキシマレーザ装置のガス劣化を低減し、長寿命化することにある。【構成】 本発明に係るエキシマレーザ装置は、ハロゲンガスと希ガスの混合ガスをレーザ媒質として用いるエキシマレーザ装置において、接ガス部の絶縁体及び構造部材の少なくともいずれかが、Si含有量がSiO2換算量で1重量%以下のセラミックスからなることを特徴とする。【効果】 本発明によれば、SiF4などの不純物発生を抑制でき、ガスの長寿命化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
ハロゲンガスと希ガスの混合ガスをレーザ媒質として用いるエキシマレーザ装置において、接ガス部の絶縁体及び構造部材の少なくともいずれかが、Si含有量がSiO2換算量で1重量%以下のセラミックスからなることを特徴とするエキシマレーザ装置。
引用特許：
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