パタ-ン欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372769
公開番号（公開出願番号）：特開2000-193443
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】本発明は、微細な回路パターンを高い分解能で検出する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】試料の像を検出する対物レンズと、その瞳に対して照明を行うレーザ照明手段と、レーザ照明の可干渉性を低減する手段と、蓄積型の検出器と、その検出信号を処理する手段とからなる。

請求項（抜粋）：

紫外線のレーザを発射するレーザ光源手段と、該レーザ光源手段から発射した紫外線のレーザの可干渉性を低減する可干渉性低減手段と、該可干渉性低減手段で可干渉性を低減した紫外線のレーザを試料上に照射する照射手段と、該照射手段により紫外線のレーザを照射された前記試料の像を検出する像検出手段と、該像検出手段で検出した前記試料の像に関する情報基いて前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

Fターム (23件)：

2F065AA49 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065DD11 , 2F065GG04 , 2F065GG22 , 2F065HH17 , 2F065JJ00 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL03 , 2F065LL10 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065MM16 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ11 , 2F065QQ14 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ27

引用特許：

審査官引用 (11件)

光学式基板検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-224325 出願人：ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション
原版検査修正装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-154074 出願人：キヤノン株式会社
マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-229882 出願人：株式会社東芝

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