特許
J-GLOBAL ID：200903063261789083
カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-131072
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318721
出願日： 1994年05月19日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 細片状の着色層とその間隙を埋める遮光性塗膜が精度よく形成され、光リークがよく防止されており、着色が鮮明で光学特性が優れるカラーフィルターを工業的有利に製造し、高画質の液晶表示装置を製造する。【構成】 基板を所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光後、現像して透明導電層上のフォトレジスト層を細片状に形成し、(a)形成した細片状のフォトレジスト層に遮光性を付与し、(b)該基板上に遮光性のネガ型フォトレジスト組成物を塗布してネガ型レジスト層を形成し、(c)該基板の裏面より露光後、現像して透明導電層を細片状に露出させ、(d)現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化させ、次いで(e)露出した透明導電上に電着により着色層を形成することによって製造する。
請求項（抜粋）：
(a)透明基板上に透明導電層を形成し、(b)該透明導電層上にポジ型フォトレジスト組成物を塗布してフォトレジスト層を形成し、(c)該フォトレジスト層を所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光後、現像して透明導電層表面を露出させ、(d)露出した透明導電層をエッチング除去して下層に透明導電層をその上層にフォトレジスト層を有する積層を設けてなる基板を形成し、(e)該基板を所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光後、現像して透明導電層上のフォトレジスト層を細片状に形成し、(f)形成した細片状のフォトレジスト層に遮光性を付与し、(g)該基板上に遮光性のネガ型フォトレジスト組成物を塗布してネガ型レジスト層を形成し、(h)該基板の裏面より露光後、現像することによってネガ型レジスト層の未露光部分および(e)の工程で細片状に形成されたフォトレジスト層を除去して透明導電層の表面を露出し、(i)現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化させ、次いで(j)(h)の工程で露出した透明導電層上に電着により着色層を形成することを特徴とする細片状の着色層を有しその間隙に遮光性塗膜を有するカラーフィルターの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
