フォトマスク、レチクルケース、レチクルストッカー、投影露光装置および半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-046906
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258820
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】ペリクルを装着したフォトマスクを用いた半導体装置製造において、量産性の低下と、フォトマスクやペリクル面への異物の付着を招くことなく、ペリクル、ペリクル枠および、フォトマスクで囲まれる領域と外気との通気性を確保し、ペリクルの平坦性を維持する。【構成】フォトマスクへペリクルを装着するためのペリクル枠側面の少なくとも一部に開孔部を設け、これを熱により形状の変化する物質あるいは、表面張力により開孔部内に留まる液体により蓋をする。また前記フォトマスクを使用してレチクルケース、投影露光装置に利用する。

請求項（抜粋）：

半導体装置製造のフォトリソ工程で、透明薄膜からなるペリクルをペリクル枠を介して装着したフォトマスクにおいて、前記ペリクル枠に、外部と前記フォトマスクと前記ペリクル及び前記ペリクル枠により密閉されている領域との通気を行なう機能を有する開孔部を少なくとも1箇所有し、更に熱により形状の変化する材質で前記開孔部に蓋をする機能を有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭63-202771
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-263024 出願人：キヤノン株式会社

前のページに戻る