特許

J-GLOBAL ID：200903063274834215

酸化チタン-酸化珪素複合膜の製造方法

発明者： 佐藤 幸治
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154929
公開番号（公開出願番号）：特開2000-344510
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】【課題】 眼鏡レンズ用等に適した、機械的強度に優れ、低反射率及び高光触媒活性を有する酸化珪素-酸化チタン複合膜の提供。【解決手段】 フルオロチタン錯イオンとフルオロ珪素錯イオンとを含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を混合して前記錯イオンと反応させて、この水溶液に浸漬した基板上に酸化チタン-酸化珪素複合膜を析出させる方法。前記複合膜はチタンと珪素の平均組成比(モル比)Ti:Siが25:75〜1:99の範囲であり、かつ4配位酸化チタンを含む。この方法により製造された酸化チタン-酸化珪素複合膜及びこの複合膜をレンズ上に有する眼鏡用レンズ。チタンと珪素の平均組成比(モル比)Ti:Siが25:75〜1:99の範囲であり、かつ4配位酸化チタンを含む酸化チタン-酸化珪素複合膜からなる眼鏡レンズ用低反射防曇膜。

請求項（抜粋）：

フルオロチタン錯イオンとフルオロ珪素錯イオンとを含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を混合して前記錯イオンと反応させて、この水溶液に浸漬した基板上に酸化チタン-酸化珪素複合膜を析出させる方法であって、前記複合膜はチタンと珪素の平均組成比(モル比)Ti:Siが25:75〜1:99の範囲であり、かつ4配位酸化チタンを含むことを特徴とする酸化チタン-酸化珪素複合膜の製造方法。

IPC (6件)：

C01B 33/12 ,  B01D 53/86 ,  B32B 9/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G02C 7/02

FI (6件)：

C01B 33/12 C ,  B32B 9/00 A ,  G02C 7/02 ,  B01D 53/36 J ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (43件)：

2K009AA01 ,  2K009BB11 ,  2K009CC03 ,  2K009DD02 ,  2K009EE02 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA17Y ,  4D048BA18Y ,  4D048BA22Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA25X ,  4D048BA28Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA34X ,  4D048BA36Y ,  4D048BA37Y ,  4D048BA38Y ,  4D048EA01 ,  4F100AA20A ,  4F100AA21A ,  4F100AA33A ,  4F100AK01B ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100GB71 ,  4F100JB05 ,  4F100JL07 ,  4F100YY00A ,  4G072AA25 ,  4G072AA37 ,  4G072BB09 ,  4G072GG03 ,  4G072HH05 ,  4G072JJ26 ,  4G072JJ28 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM21 ,  4G072NN21 ,  4G072RR12 ,  4G072UU30