基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川崎実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380864
公開番号（公開出願番号）：特開2002-177911
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2002年06月25日
要約：

【要約】【課題】基板の表面および周端面を良好に洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】処理対象のウエハWには、薬液が供給される一方で、+C方向に20rpm(周端面洗浄用回転速度)で回転する洗浄用ブラシ66,86が接触させられる。そして、洗浄用ブラシ66,86が接触してから予め定める低速回転時間T1(たとえば、T1=10sec)が経過すると、洗浄用ブラシ66,86の回転速度が1000rpm(表面洗浄用回転速度)に上げられる。さらに、洗浄用ブラシ66,86の回転速度が1000rpmに上げられてから予め定める高速正転時間T2(たとえば、T2=15sec)が経過すると、洗浄用ブラシ66,86の回転方向が+C方向から-C方向に反転されて、洗浄用ブラシ66,86が-C方向に1000rpmで回転される。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段によって回転されている基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、上記基板保持回転手段によって保持されて回転されている基板の表面に摺接して、この基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄部材と、このスクラブ洗浄部材を回転させるスクラブ洗浄部材回転駆動手段と、基板の洗浄処理中に、上記スクラブ洗浄部材回転駆動手段を制御することにより、上記スクラブ洗浄部材の回転速度を、基板の表面の洗浄のための表面洗浄用回転速度と、この表面洗浄用回転速度よりも低速であって、基板の周端面の洗浄のための周端面洗浄用回転速度とに変更するスクラブ洗浄部材回転制御手段とを含むことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 7/04 , B08B 1/04 , B08B 3/02 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 644

FI (6件)：

B08B 7/04 A , B08B 1/04 , B08B 3/02 B , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 644 C

Fターム (20件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088MA20 , 2H090JC19 , 3B116AA03 , 3B116AB34 , 3B116AB42 , 3B116BA02 , 3B116BA13 , 3B116BB24 , 3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BA02 , 3B201BA13 , 3B201BB24 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CB25

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