単体フェイスマスクを生成する方法及び分与アセンブリ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-564753
公開番号（公開出願番号）：特表2006-511289
出願日： 2003年09月16日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：

【課題】フェイスマスク及びその生成方法を提供する。【解決手段】複数のフェイスマスク(50)を生成する方法。本方法は、全体的に同じ材料の連続ウェブ(48)を準備する段階を含む。複数の本体部分は、複数のフェイスマスクの各々が1つの本体部分(12)を有するように連続ウェブ(48)から型押しされる。複数の左延長部分(18)は、本体部分(12)の各々がそれに一体的に取り付けられた1つの左延長部分(6)を有するように連続ウェブから型押しされる。複数の右延長部分(18)は、本体部分(12)の各々がそれに一体的に取り付けられた1つの右延長部分(18)を有するように連続ウェブ(48)から型押しされる。また、フェイスマスク(50)を分与するためのディスペンサアセンブリも提供される。アセンブリは、コア(72)及びコア(72)上に回転可能に配置されたフェイスマスク(54)のロールを含む。フェイスマスク(50)の少なくとも1つは、本体部分(12)及び本体部分(12)に一体的に取り付けられた左延長部分(16)を含む。右延長部分(18)は、本体部分(12)に一体的に取り付けられる。

請求項（抜粋）：

フェイスマスクを生成する方法であって、材料の連続ウェブを準備する段階と、前記材料の連続ウェブから複数のフェイスマスクを型抜きする段階と、を含み、前記フェイスマスクは、本体部分、該本体部分に一体的に取り付けられた左延長部分、及び該本体部分に一体的に取り付けられた右延長部分を含む、ことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

A62B 18/02 , A61B 19/00

FI (2件)：

A62B18/02 C , A61B19/00 512

Fターム (7件)：

2E185AA07 , 2E185BA11 , 2E185BA12 , 2E185BA16 , 2E185CB07 , 2E185CB18 , 2E185CC36

引用特許：

出願人引用 (45件)

米国特許第4,340,563号
米国特許第4,789,699号
米国特許第4,781,966号

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審査官引用 (2件)

特開昭58-027567
特開昭55-158063

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