特許
J-GLOBAL ID:200903063310005514

フツ素系エキシマレーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 橋爪 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-263159
公開番号(公開出願番号):特開平5-075182
出願日: 1991年09月13日
公開日(公表日): 1993年03月26日
要約:
【要約】【目的】 レーザ媒質ガスの寿命を延長させることにより、所定のレーザ出力を長期に渡って維持する。【構成】 レーザ媒質ガス41と接触する絶縁物3を純度99.5%以上のアルミナセラミックとした。
請求項(抜粋):
フッ素系エキシマレーザ装置において、レーザ媒質ガス41と接触する絶縁物3が純度99.5%以上のアルミナセラミックである構成を特徴とするエキシマレーザ装置。

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