特許
J-GLOBAL ID：200903063317553096

基板処理装置

発明者：
沼倉 雅博

沼倉 雅博 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-139775
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332405
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：
【要約】【課題】 各処理部の使用頻度を均一化することができ、メンテナンスサイクルや処理部内の部品の消耗度に差が生じることを抑制することのできる基板処理装置を提供する。【解決手段】 制御装置MCには、1つ前のロットにおいて、最後に処理を行ったプロセス室PM(最終処理PM)が記憶されており(107)、今回のロットの処理を開始するに当たっては、この最終処理PMの次のプロセス室(例えば、最終処理PMがプロセス室PM1の場合はプロセス室PM2)から半導体ウエハWの搬入を開始する。
請求項（抜粋）：
被処理基板に所定の処理を施すための複数の処理部と、複数の前記処理部に所定の順序で前記被処理基板を搬送する搬送機構と、複数の前記処理部のうち最後に前記被処理基板の処理が行われた処理部を記憶し、次に処理を開始する際に、前記記憶された処理部の次の順序の処理部から前記被処理基板の搬送を開始するよう前記搬送機構を制御する制御手段とを具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z
Fターム (18件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031DA08 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031GA50 ,  5F031MA06 ,  5F031MA13 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA04
引用特許：
審査官引用 (11件)
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