特許

J-GLOBAL ID：200903063323003898

粒子線治療システム

発明者： 森山 國夫 ,  前田 彰彦 ,  保江 佳克 ,  中山 尚英
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-062585
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267481
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】照射対象でない治療室への誤ったビーム輸送を未然に防止し、安全性を向上する。【解決手段】荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置1と、照射装置15A〜C,16を備えた複数の治療室2A〜C,3と、出射されたビームをビーム進行方向下流側へ輸送する1つの第1ビーム輸送系4と、これから分岐するように設けられビームを複数の治療室2A〜C,3のうち対応するものの照射装置15A〜C,16へそれぞれ輸送する複数の第2ビーム輸送系5A〜Dと、その分岐部にそれぞれ設けられ、第1ビーム輸送系4からのビームを偏向して対応する第2ビーム輸送系5A〜Dへ導入する複数の切替え電磁石6A〜Cと、切替え電磁石6A〜Cより下流側に設けられ、ビーム進行経路を遮断する第1シャッタ7A〜Dとを有する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置と、 前記荷電粒子ビームを照射する照射装置が配置された複数の治療室と、 前記荷電粒子ビーム発生装置に連絡され、前記複数の治療室内の前記各照射装置に前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを別々に輸送する複数のビーム輸送系と、 前記ビーム輸送系のうち少なくとも1つに当該ビーム輸送系のビーム経路を遮断する第1シャッタと を備えたことを特徴とする粒子線治療システム。

IPC (3件)：

A61N5/10 ,  G21K5/04 ,  H05H7/10

FI (5件)：

A61N5/10 S ,  A61N5/10 H ,  A61N5/10 P ,  G21K5/04 D ,  H05H7/10

Fターム (17件)：

2G085AA13 ,  2G085BA16 ,  2G085CA04 ,  2G085DA02 ,  2G085DA03 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG06 ,  4C082AG12 ,  4C082AG22 ,  4C082AG52 ,  4C082AJ16 ,  4C082AL07 ,  4C082AN02 ,  4C082AR01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 放射線治療設備のためのビーム経路コントロール及びセキュリティシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-525073   出願人：ロマリンダユニヴァーシティメディカルセンター
• 特公平6-026604
  
• 放射線治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-005712   出願人：三菱電機株式会社
• 特公平7-032806
  
• 粒子線治療システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045802   出願人：株式会社日立製作所