特許

J-GLOBAL ID：200903063325731599

撥水性多孔質シリカ、その製造方法および用途

発明者： 高 村 一 夫 ,  岡 部 晃 博 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  村 上 雅 美
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-126376
公開番号（公開出願番号）：特開2002-293529
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】光機能材料や電子機能材料に応用可能な均一な細孔を有する撥水性多孔質シリカフィルム、その製造方法および用途を提供すること。【解決手段】フッ素原子が共有結合により固定化されているシリカ骨格からなり、アルカリ金属含有量が10ppb以下である均一な細孔を有する撥水性多孔質シリカフィルムを合成する。【効果】均一な細孔を持つ撥水性多孔質シリカフィルム、その製造方法および用途を提供することが可能となった。

請求項（抜粋）：

シリカ骨格内にフッ素原子が共有結合により固定化されており、アルカリ金属含有量が10ppb以下であることを特徴とする均一な細孔を有する撥水性多孔質シリカ。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  H01L 21/316 ,  H01M 4/86

FI (3件)：

C01B 33/12 A ,  H01L 21/316 G ,  H01M 4/86 B

Fターム (25件)：

4G072AA08 ,  4G072AA25 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072KK01 ,  4G072LL14 ,  4G072MM04 ,  4G072MM32 ,  4G072MM36 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072TT08 ,  4G072UU15 ,  4G072UU30 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058BC05 ,  5F058BF46 ,  5H018AA01 ,  5H018AS01 ,  5H018EE12 ,  5H018HH04