特許

J-GLOBAL ID：200903063326103842

廃液浄化装置およびその浄化方法

発明者： ダニュエル・シュモン ,  キャサリン・テペニール ,  クロード・ギュダン
出願人/特許権者： コミツサリア タ レネルジー アトミーク
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-292123
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214097
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 継続的に機能する廃液浄化装置およびその浄化方法を提供する。【構成】 光合成的微生物の生きた細胞を固定する支持体7を内部に有する閉込め囲壁1を具備する装置であって、前記支持体を、光線を透過する部材によって構成し、前記囲壁1内に処理すべき廃液と培地とを導入し、循環させる手段を設けた。

請求項（抜粋）：

汚染物質、特に金属および/あるいは放射性核種を含む廃液の浄化を行う装置であって、前記汚染物質を捕集可能な光合成的微生物の細胞を保持する閉込め囲壁(1)と、処理すべき廃液を導入する手段(31)と、前記廃液を前記囲壁(1)内で循環させる手段(35)と、処理された廃液を採取する手段(33,65)と、前記汚染物質を採取する手段(33)と、前記囲壁内にCO2を導入する手段(23)とを具備しており、前記微生物の細胞は、少なくとも前記囲壁の内部を部分的に占め、かつ前記処理すべき廃液によって横切られる支持体(7)に固定された生きた細胞であって、当該装置は、導入する手段(21)と、液体普通培地が前記支持体を横切るように循環させる手段(23)とを有し、前記囲壁(1)の壁および前記細胞の支持体(7)は、光線を透過する部材によって構成されることを特徴としている。

IPC (2件)：

G21F 9/18 ,  C02F 3/00 ZAB