特許
J-GLOBAL ID:200903063328105672

情報記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-288673
公開番号(公開出願番号):特開2001-110096
出願日: 1999年10月08日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】 これまで以上のピットの微小化を図り、ピットパターン密度の向上を図る。【解決手段】 ピット列パターンを形成するに際し、ピットパターンを露光する第1の光スポットと、第1の光スポットとは半径方向にトラックピッチの略n/2(ただし、nは整数である。)の距離を隔てピットパターンの側部に一部重なるグルーブを露光する第2の光スポットとにより感光層を露光する。このとき、グルーブの半径方向における台形状の断面形状において、グルーブ幅を台形の上底と下底の平均値として与えたときに、その値WgがトラックピッチT.Pに対してT.P×0.50≦Wg≦T.P×0.60となるように設定する。基板を直接エッチングする場合には、エッチング前のグルーブに対応する感光層と支持体との境界面における幅WaをトラックピッチT.Pに対して(T.P×0.50)-45nm≦Wa≦(T.P×0.60)+45nmとなるように設定する。また、いずれの場合にも、露光工程前に感光層の表面を現像液に浸し難溶化処理することが好ましい。
請求項(抜粋):
支持体上に感光層を形成する工程と、感光層の所定領域を露光する工程と、露光後に現像して前記感光層にピット列パターンに対応する凹凸パターンを形成する工程と、この凹凸パターンに基づいて情報の記録及び/又は再生に関与する凹凸を基体に形成する工程とを有してなる情報記録媒体の製造方法において、ピットパターンを露光する第1の光スポットと、当該第1の光スポットとは半径方向にトラックピッチの略n/2(ただし、nは整数である。)の距離を隔て上記ピットパターンの側部に一部重なるグルーブを露光する第2の光スポットとにより上記感光層を露光し、且つ、上記グルーブの半径方向における台形状の断面形状において、グルーブ幅を台形の上底と下底の平均値として与えたときに、その値WgがトラックピッチT.Pに対してT.P×0.50≦Wg≦T.P×0.60となるように設定することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
Fターム (5件):
5D121AA09 ,  5D121BB01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB33 ,  5D121CB03

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