特許
J-GLOBAL ID:200903063334353173

X線多層膜反射鏡の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-037898
公開番号(公開出願番号):特開平5-232299
出願日: 1992年02月25日
公開日(公表日): 1993年09月07日
要約:
【要約】【目的】 X線多層膜反射鏡の耐熱性を向上させる。【構成】 互いに屈折率の異なる3種類の物質A、B、Cをターゲット3a、3b、3cとしたスパッタリング法により、A/C/B/Cの順に前記各物質からなる薄膜を積層し、これを複数回繰り返すことで多層膜を形成するようにした。そして、スパッタリングを行う際、不活性ガスのイオン7をターゲット3に照射するようにした。
請求項(抜粋):
互いに屈折率の異なる3種類の物質A、B、Cをターゲットとしたスパッタリング法により、A/C/B/Cの順に前記各物質からなる薄膜を積層し、これを複数回繰り返すことで多層膜を形成することを特徴とするX線多層膜反射鏡の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平2-242201

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