加工観察装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富田和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-027803
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223574
出願日： 1997年02月12日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】試料の角度を変更することなく加工断面のSIM像を得る。【解決手段】集束イオンビームを照射して、試料7表面を加工する加工用イオンビーム照射系1と、集束イオンビームを照射して、試料7から放出される二次イオンを検出することにより、試料7表面の状態を検出する観察用イオンビーム照射系2と、加工用イオンビーム照射軸および観察用イオンビーム照射軸の交点に試料表面を保持するための試料保持部6と、試料7表面の状態を表示する表示装置3aとを備える。

請求項（抜粋）：

集束イオンビームを照射して、試料表面を加工する加工用イオンビーム照射系と、集束イオンビームを照射して、試料から二次荷電粒子を放出させる観察用イオンビーム照射系と、上記加工用イオンビーム照射系の照射軸、および、上記観察用イオンビーム照射系の照射軸の交点に試料表面を支持するための試料支持部と、試料から放出された二次荷電粒子を検出し、検出結果を出力する検出器と上記検出器の出力を表示する表示装置とを備え、上記加工用イオンビーム照射系および上記観察用イオンビーム照射系は、それぞれ、内部を真空にすることのできるイオンビーム照射鏡筒と、上記鏡筒内に配置された、イオンビームを発生させるイオン源、および、該イオン源からのイオンビームを集束するイオンビーム集束手段とを備えることを特徴とする加工観察装置。

IPC (8件)：

H01L 21/302 , G01B 9/04 , G01B 17/00 , G01B 21/30 , G01R 31/302 , H01J 37/305 , H01J 37/317 , H01L 21/66

FI (8件)：

H01L 21/302 Z , G01B 9/04 , G01B 17/00 B , G01B 21/30 Z , H01J 37/305 A , H01J 37/317 D , H01L 21/66 C , G01R 31/28 L

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-045526
収束イオンビーム・二次イオン質量分析計複合装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-199151 出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
特開平2-205682

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