特許

J-GLOBAL ID：200903063339482893

有機物含有水の処理方法とその装置

発明者： 知福 博行
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070025
公開番号（公開出願番号）：特開平10-263536
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【課題】 半導体,液晶製造装置等の電子工業における低濃度有機性排水等の有機物含有水から有機物を除去してその有機物含有水を処理する方法と、その方法に使用する装置に関し、連続処理するラインにおいて紫外線照射ランプへの冷却水の供給を不要とし、そのための設備を簡易化するとともに設備コストを低減し、しかもランプの発光効率を低下させずに省エネルギーでの装置の運転を可能にするとともに公害の発生を防止することを課題とする。【解決手段】 紫外線を照射する低圧水銀ランプ5を保護管のない一重管で構成するとともに、該低圧水銀ランプ5の発光部外表面を被処理水中に直接浸漬し、被処理水の温度を制御することにより前記低圧水銀ランプ5の発光部外表面の温度を制御することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

紫外線照射により、被処理水中の有機物を酸化分解して処理する有機物含有水の処理方法において、紫外線を照射する低圧水銀ランプ(5) を保護管のない一重管で構成するとともに、該低圧水銀ランプ(5) の発光部外表面を被処理水中に直接浸漬し、被処理水の温度を制御することにより前記低圧水銀ランプ(5) の発光部外表面の温度を制御することを特徴とする有機物含有水の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/02 ,  C02F 1/72 101

FI (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/02 F ,  C02F 1/72 101