特許
J-GLOBAL ID:200903063359273417

露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-181329
公開番号(公開出願番号):特開2001-012905
出願日: 1999年06月28日
公開日(公表日): 2001年01月19日
要約:
【要約】【課題】 基板にプロキシミティギャップ計測用マークを設けること無くプロキシミティギャップを計測可能な露光装置を提供する。【解決手段】 基板ステージ6の載置面6S上に配置された基板4の周囲であって載置面6S上の各コーナー(4カ所)付近に、平板部材5Bが配置・固定されている。平板部材5Bは基板4と同一の材質及び厚さを有しており、平板部材5Bと載置面6S上に配置された基板4との各々のマスク1側の表面は、平行且つ同一の高さレベルを成す。平板部材5Bの上記表面が基板ステージ側プロキシミティギャップ計測用マーク5を成す。当該マーク5とマスク側プロキシミティギャップ計測用マーク2とで以てプロキシミティギャップを計測する。これにより、基板4の全面をパターン転写領域として利用でき、また、基板4の種類毎にレーザ発光部7等の配置を変更する必要を無くすることができる。
請求項(抜粋):
周縁部に第1マークを有するマスクに形成された所定の露光パターンを、前記マスクと対面するように基板ステージ上に配置された基板の表面に露光転写する露光装置であって、前記基板ステージ上に配置された前記基板の周囲であって前記第1マークの配置位置に対面する位置に前記基板表面と同じ高さに配置されて、前記第1マークと共に、前記マスクと前記基板との間の距離を光学的に計測するための第2マークを備えることを特徴とする、露光装置。
IPC (6件):
G01B 11/00 ,  B65G 49/06 ,  G01B 11/14 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (6件):
G01B 11/00 B ,  B65G 49/06 Z ,  G01B 11/14 Z ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/30 511
Fターム (49件):
2F065AA24 ,  2F065AA37 ,  2F065BB02 ,  2F065CC20 ,  2F065DD02 ,  2F065EE02 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065KK01 ,  2F065PP12 ,  2F065TT02 ,  2F065UU04 ,  2H097GA45 ,  2H097GB02 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA14 ,  2H097KA15 ,  2H097KA16 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA32 ,  5F031JA38 ,  5F031MA27 ,  5F046AA04 ,  5F046BA02 ,  5F046DA17 ,  5F046DB08 ,  5F046DB10 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03 ,  5F046EC03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA05 ,  5F046FC06

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