特許
J-GLOBAL ID：200903063372207067
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280202
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100421
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにKrF又はArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、現像欠陥の発生が少なく、エッジラフネスに優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び下記一般式(I)で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中:R1は、繰り返し単位と連結する有機基を表し、R2〜R4は、各々独立に、水素原子、置換基を有して良いアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、環状アルキル基を表す。但し、R2〜R4は互いに結合して非芳香環、芳香環を形成しても良い。X:R-SO3、R:置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA00
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB48
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
