特許

J-GLOBAL ID：200903063385460713

物体の恒久埋設処理法

発明者： 坂井 吾郎 ,  坂田 昇 ,  広中 良和 ,  重松 和男 ,  万木 正弘 ,  南 昌義 ,  吉崎 政人
出願人/特許権者： 鹿島建設株式会社 ,  三晶株式会社
代理人 (1件)： 和田 憲治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-127175
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311298
出願日： 1994年05月18日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】 低レベル放射能廃棄物等を地盤中に埋設するさいの恒久安全性を確保する。【構成】 地盤中に埋設する物体と物体の隙間にセメント系モルタルを充填して固化する物体の恒久埋設処理法において,単位水量:200〜250kg/m3 ,水/セメント比(百分率):70〜400%の低セメント量の配合としたうえ,平均粒径100μm以下の微粉末(セメントを含まず):50〜800kg/m3,細骨材:800〜1200kg/m3,ウエランガム:20g/m3〜1.3kg/m3,分散剤:0〜40kg/m3膨張剤:0〜40kg/m3を配合したセメント系モルタルを前記隙間に充填することを特徴とする物体の恒久埋設処理法

請求項（抜粋）：

地盤中に埋設する物体と物体の隙間にセメント系モルタルを充填して固化する物体の恒久埋設処理法において,単位水量:200〜250kg/m3 ,水/セメント比(百分率):70〜400%の低セメント量の配合としたうえ,平均粒径100μm以下の微粉末(セメントを含まず):50〜800kg/m3,細骨材:800〜1200kg/m3,ウエランガム:20g/m3〜1.3kg/m3,分散剤:0〜40kg/m3膨張剤:0〜40kg/m3を配合したセメント系モルタルを前記隙間に充填することを特徴とする物体の恒久埋設処理法。

IPC (3件)：

G21F 9/36 541 ,  G21F 9/36 ZAB ,  G21F 1/04