特許
J-GLOBAL ID：200903063399529082
イオンビーム発生装置及びそれのクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-241290
公開番号（公開出願番号）：特開2004-076140
出願日： 2002年08月22日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】本発明の課題は、真空の解除,装置の分解,部品交換なしに、反応性の高いイオン種によって電極表面に堆積する絶縁被膜が除去できるイオンビーム発生装置及びそれのクリーニング方法を提供するにある。【解決手段】本発明は、プラズマ室内のプラズマからイオンビームを引き出す電極に高周波電圧を印加すると共に、該電極近傍に還元性ガスを導入し、前記高周波電圧によって前記電極近傍に前記還元性ガスのプラズマ及びラジカルを生成し、該プラズマ及びラジカルの還元作用によって前記電極に付着している被膜を除去することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
内部にプラズマを生成するプラズマ室と、該プラズマ室からイオンビームを引き出す電極と、該電極に高周波電圧を印加する高周波電源と、該高周波電源からの高周波電源が印加される電極近傍に還元性ガスを導入する還元性ガス導入手段とを備えていることを特徴とするイオンビーム発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23F4/00 A
, H01L21/302 101H
4K057DA01
, 4K057DB08
, 4K057DD04
, 4K057DE20
, 4K057DM06
, 4K057DM09
, 4K057DM16
, 4K057DM37
, 4K057DN01
, 5F004AA15
, 5F004BA14
, 5F004BB13
, 5F004BB14
, 5F004BD06
, 5F004CA01
, 5F004CA03
, 5F004DA24
