特許
J-GLOBAL ID：200903063409519005
干渉計及びそれを取り付けたXYステージ装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-161322
公開番号（公開出願番号）：特開平9-014909
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【構成】 干渉計の移動ミラー3の変位を検知するモニター装置を干渉計に付加した。モニター装置は例えば光源1とディテクタ2とからなる。【効果】 半導体素子や液晶デバイス等の製造装置のXYステージ装置には干渉計が取り付けられる事が多い。干渉計の移動ミラーが知らぬ間にXYステージ装置の載物板に対して変位すると位置決め誤差を生じ、半導体素子や液晶デバイス等の不良品を生む。本発明は移動ミラー3の変位をリアルタイムに知ることができるので不良品の発生を未然に防止できる。
請求項（抜粋）：
光源、本体部及び移動体に固定された移動ミラーからなる干渉計において前記移動ミラーの変位を検知するモニター装置を付加したことを特徴とする干渉計。
IPC (4件)：
G01B 9/02
, B23Q 17/24
, G12B 5/00
, H01L 21/68
G01B 9/02
, B23Q 17/24 B
, G12B 5/00 T
, H01L 21/68 K
