特許
J-GLOBAL ID:200903063410263782

ムライトセラミツクスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-259922
公開番号(公開出願番号):特開平5-070218
出願日: 1991年09月10日
公開日(公表日): 1993年03月23日
要約:
【要約】【目的】 緻密で気孔のない薄膜配線用基板をムライト質材料で作成する。【構成】 アルカリ土類金属酸化物またはコージェライトを添加して焼結したムライトセラミックスを、熱間等方圧プレス(HIP)を行ない、さらにその後熱処理を行なった。その際、添加物の量および熱処理条件を規定した。
請求項(抜粋):
酸化マグネシウムとして1〜4%、酸化カルシウム1〜5%、酸化ストロンチウムとして1〜7%、または、酸化バリウムとして3〜7%のいずれか1種類以上を含有する焼結したムライトセラミックスを、1400°C以上の温度でアルゴン、窒素または酸素を含むこれらガスのいずれかの雰囲気中で熱間等方圧プレスすることを特徴とするムライトセラミックスの製造方法。

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