特許

J-GLOBAL ID：200903063414950571

液晶表示装置の製造方法

発明者： 福元 浩英
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-236816
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084332
出願日： 1997年09月02日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 画像のコントラストむら特性の向上が可能な、多面取りによるアクティブマトリクス基板および対向基板を用いて形成される液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 複数のアクティブマトリクス基板を形成する石英基板11上に、ポリシリコンTFT、付加容量、画素電極等で構成する表示部と、信号サンプルホールド回路部と、垂直走査回路部等により構成される駆動素子部10を形成し、その後オフセット印刷法により、駆動素子部10上のみに、第1の配向膜50を形成するための配向膜形成溶液を塗布し、続いて第1の配向膜50上のみに、第2の配向膜51を形成するための配向膜形成溶液を、短時間の塗布間隔を置いて塗布することで、第1の配向膜50と第2の配向膜51とで構成される配向膜52表面を平坦化する。

請求項（抜粋）：

第1の被処理基板に複数のアクティブマトリクス基板を形成し、第2の被処理基板に複数の対向基板を形成し、前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板を有して形成される液晶表示装置の製造方法において、前記第1の被処理基板上に、複数の前記アクティブマトリクス基板の駆動素子部を形成する工程と、前記第1の被処理基板上の複数の前記駆動素子部上に、複数回に分けて配向膜形成溶液を塗布し、配向膜を形成する工程とを有すると共に、前記第2の被処理基板に、前記アクティブマトリクス基板の前記駆動素子部に対応する、複数の前記対向基板の対向電極部を形成する工程と、前記第2の被処理基板上の複数の前記対向電極部上に、複数回に分けて配向膜形成溶液を塗布し、配向膜を形成する工程とを有し、前記第1の被処理基板および前記第2の被処理基板を各々分割し、前記アクティブマトリクス基板および前記対向基板を形成する工程と、前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを対向させ、前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板間に液晶を封入する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (5件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1337 ,  G02F 1/136 500 ,  G09F 9/00 340 ,  H01L 27/12

FI (5件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1337 ,  G02F 1/136 500 ,  G09F 9/00 340 A ,  H01L 27/12 A