特許
J-GLOBAL ID:200903063435912220
多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡部 温 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-132134
公開番号(公開出願番号):特開2002-323599
出願日: 2001年04月27日
公開日(公表日): 2002年11月08日
要約:
【要約】【課題】 短い時間で膜形成が行われ、かつ、界面層の厚さが薄い多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 多層膜反射鏡50は、Mo層51とSi層53とを基板55上に交互に積層してなる。各層は第1条件と第2条件の二種類の形成条件により形成される。第1条件は、界面層の厚さが第2条件で形成する場合に比べて薄くなる条件であり、第2条件は、層の形成速度が第1条件で形成する場合に比べて速い条件である。まず、第1条件でMo層51の第1層51aを形成し、その後第2条件で第2層51bを形成する。そして、第1条件でSi層53の第1層53aを形成し、第2条件で第2層53bを形成する。
請求項(抜粋):
軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層と小さい物質からなる第2層とを基板上に交互に積層してなる多層膜反射鏡を製造する方法であって、前記第1層又は第2層の少なくとも一つの層を形成する工程中に、該層の形成条件を変化させることを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
IPC (4件):
G21K 1/06
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02
, H01L 21/027
FI (5件):
G21K 1/06 D
, G21K 1/06 C
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02 X
, H01L 21/30 531 A
Fターム (11件):
2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046GA03
, 5F046GA06
, 5F046GA07
, 5F046GB01
, 5F046GB03
, 5F046GB04
, 5F046GC03
, 5F046GD10
, 5F046GD16
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