特許
J-GLOBAL ID：200903063445757460

パターン形成方法

発明者：
佐藤 弘章

佐藤 弘章 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-366279
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183826
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】 環境面に優れ、かつ経済的で、作業性に優れたガラス又はセラミックスのパターン形成方法を提供すること。【解決方法】 ガラス又はセラミックスを基材とし、該基材上に、酸価10〜150mgKOH/gのカルボキシル基含有ウレタン(メタ)アクリレート系化合物(A)及び光重合開始剤(B)からなる感光性樹脂組成物(I)層を形成し、パターンマスクを介して露光及び現像を行った後、露出した基材部をサンドブラストにより切削するパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
ガラス又はセラミックスを基材とし、該基材上に、酸価10〜150mgKOH/gのカルボキシル基含有ウレタン(メタ)アクリレート系化合物(A)及び光重合開始剤(B)からなる感光性樹脂組成物(I)層を形成し、パターンマスクを介して露光及び現像を行った後、露出した基材部をサンドブラストにより切削することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (7件)：
G03F 7/027 513 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (7件)：
G03F 7/027 513 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
Fターム (26件)：
2H025AA13 ,  2H025AB11 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC45 ,  2H025BC85 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025DA19 ,  2H025FA17 ,  2H025FA42 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096HA30 ,  5C027AA09 ,  5C040GA09 ,  5C040GF19 ,  5C040JA15 ,  5C040JA17 ,  5C040KA16 ,  5C040MA22 ,  5C040MA26
引用特許：
審査官引用 (4件)
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