特許
J-GLOBAL ID：200903063457450505
レジストパタ-ンの形状改善方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-359788
公開番号（公開出願番号）：特開平5-181286
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 現像液の温度を適性に制御することにより、高感度で良好な形状のレジストパターンを得られるようにする。【構成】 露光したレジストに現像液を適用するレジストパターンの現像工程において、まず高温の現像液を適用し、次いで低温の現像液を適用する。
請求項（抜粋）：
露光したレジストに現像液を適用するレジストパターンの現像工程において、まず高温の現像液を適用し、次いで低温の現像液を適用することを特徴とするレジストパターンの形状改善方法。
IPC (2件)：
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