特許
J-GLOBAL ID:200903063480364764

スパッタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 桑井 清一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-041872
公開番号(公開出願番号):特開平7-228968
出願日: 1994年02月16日
公開日(公表日): 1995年08月29日
要約:
【要約】【目的】 真空チャンバの小型化を図り、真空度の低下等の問題を回避する。【構成】 複数の棒状体のそれぞれに、軸に垂直方向の貫通孔19を形成する。棒状体の周面にツバ18を突出して設ける。基板2上に成膜を行わない場合には、各棒状体の貫通孔19の開口部が互いに向かい合うよう各棒状体を回転させる。このとき、各棒状体の隙間はツバ18により閉止される。基板2上に成膜を行う場合には、コリメータ13の各棒状体を90 ゚回転させ、全ての貫通孔19の開口端を上側(ターゲット1の方向)に向かせる。コリメータ13はシャッタの機能をも併せ持つため、シャッタを別途設ける必要がなくなり、真空チャンバ5を小型にすることができる。
請求項(抜粋):
ターゲットおよび基板が内部に配設された中空の真空チャンバと、ターゲットおよび基板の間に位置するコリメータとを有するスパッタ装置において、上記コリメータは、並んで設けられた回動自在な複数の棒状体を備え、それぞれの棒状体には、棒状体の軸に対して垂直な貫通孔が複数形成されたことを特徴とするスパッタ装置。
IPC (2件):
C23C 14/34 ,  H01L 21/203
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平1-222049
  • 特開昭63-105969

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