特許
J-GLOBAL ID：200903063488304280
情報記録ディスク用保護膜作成方法及び情報記録ディスク用薄膜作成装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-214370
公開番号（公開出願番号）：特開2001-043530
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 情報記録ディスクの製作において、保護膜の前に作成される磁性膜の最適な作成条件と保護膜の最適な作成条件との相違により生じる問題を解決する。【解決手段】 磁性膜を作成する磁性膜作成チャンバー5と保護膜作成チャンバー6との間には中間加熱チャンバー8が気密に接続されている。保護膜作成チャンバー6では、バイアス印加機構64によって基板9に負のバイアス電圧を与えながら、炭化水素化合物ガスの高周波放電プラズマ中での分解を利用したプラズマ化学蒸着により炭素保護膜が作成される。保護膜作成温度は磁性膜作成温度よりも高く、磁性膜作成後に保護膜作成温度になるよう基板9は中間加熱チャンバー8で輻射加熱ランプ81により加熱される。高保磁力の磁性膜の上に高硬度の炭素保護膜が積層された構造の情報記録ディスクが得られる。
請求項（抜粋）：
情報記録ディスク用の基板の表面に情報記録層としての磁性膜を作成した後にこの磁性膜の上に保護膜を作成する情報記録ディスク用保護膜作成方法であって、前記保護膜を作成する際の基板の温度である保護膜作成温度は、前記磁性膜を作成する際の基板の温度である磁性膜作成温度よりも高く、前記磁性膜を作成した後、保護膜作成の際に保護膜作成温度になるよう基板を加熱することを特徴とする情報記録ディスク用保護膜作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
5D006AA05
, 5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D006EA03
, 5D112AA05
, 5D112AA07
, 5D112AA24
, 5D112FA02
, 5D112FA10
, 5D112FB21
, 5D112FB26
審査官引用 (3件)
-
特開平1-258219
-
特開平2-267721
-
特開平4-356721
前のページに戻る
