特許
J-GLOBAL ID：200903063488626717
荷電ビーム照射装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-124406
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144716
出願日： 1992年05月18日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【構成】 荷電ビーム発生室2と荷電ビーム制御室3と試料室4とからなる真空室1と、試料室4内に設けられ、荷電ビームが照射される試料17が設置される試料台16と、真空室外に設けられ、ガスが導入され、前記荷電ビームの照射で生じた又は生ずる真空室1内の汚染を清浄化する活性種が前記ガスの解離により発生する放電室と、真空室1内へ前記活性種が導入される活性種導入部19とが具備されたことを特徴とする。【効果】 荷電ビーム照射装置内の部品表面の汚染物を下地を損傷せずに簡単に清浄化することができる。
請求項（抜粋）：
荷電ビーム発生部と荷電ビームに対する光学系を備えた荷電ビーム制御室と試料室とを有する真空室と、この真空室に接続され、前記真空室を清浄化する活性種を発生する放電室とを具備したことを特徴とする荷電ビーム照射装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, C23C 16/54
, C23F 4/00
, C30B 25/14
H01L 21/30 341 L
, H01L 21/30 341 Z
