特許

J-GLOBAL ID：200903063499163921

酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法

発明者： 森嶋 浩之 ,  島村 泰夫
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017966
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214296
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】 経時的に安定で、成膜性に優れ、基体表面上に形成される酸化物被膜にはクラックの発生が無い酸化物被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 (A)一般式【化1】(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基、mは4〜10の整数を意味し、R同士は相異してもよい)で表されるアルコキシシラン化合物、(B)一般式M(OR′)2(式中Mは原子価2の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表される金属アルコキシド化合物 および/または一般式M(OR′′OR′)2(式中Mは原子価2の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基、R′′は炭素数1〜4のアルケニルを意味する)で表される金属アルコキシド化合物および(C)一般式M′(OR′)3(式中M′は原子価3の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表される金属アルコキシド化合物を、溶媒および触媒の存在下に水を添加して、縮重合させて得られる反応物を含んでなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を用いた酸化物被膜の製造法。

請求項（抜粋）：

(A)一般式【化1】(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基、mは4〜10の整数を意味し、R同士は相異してもよい)で表されるアルコキシシラン化合物、(B)一般式M(OR′)2(式中Mは原子価2の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表される金属アルコキシド化合物 および/または一般式M(OR′′OR′)2(式中Mは原子価2の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基、R′′は炭素数1〜4のアルケニル基を意味する)で表される金属アルコキシド化合物および(C)一般式M′(OR′)3(式中M′は原子価3の金属原子、R′は炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表される金属アルコキシド化合物を、溶媒および触媒の存在下に水を添加して、縮重合させて得られる反応物を含んでなる酸化物被膜形成用塗布液。

IPC (6件)：

C09D183/04 PMV ,  C03C 17/27 ,  C04B 41/87 ,  C09D185/00 PMW ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/90