特許
J-GLOBAL ID：200903063508634541
薄膜の作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-167275
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009723
出願日： 1991年07月08日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 ガラス基板上での薄膜の形成において、膜の厚みの方向への膜質の均一化を達成し、形成された薄膜の還元等による膜質の変化を防止する。【構成】 ガラス基板4をマグネトロン放電を生じさせたタ-ゲット3上を移動させることによって膜付着を行うスパッタ成膜において、タ-ゲット3のエロ-ジョン部2と基板1の間にシ-ルド板3を設置して行うことを特徴とする薄膜の作製方法。
請求項（抜粋）：
(1)ガラス等の基板をマグネトロン放電を生じさせたタ-ゲット上を移動させることによって膜付着を行うスパッタ成膜において、タ-ゲットのエロ-ジョン部と基板の間にシ-ルド板を設置して行うことを特徴とする薄膜の作製方法。
IPC (2件)：
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