特許

J-GLOBAL ID：200903063519930797

含ケイ素化合物、その製造方法、およびその用途

発明者： 内丸 祐子 ,  田中 正人
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-245027
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188419
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【構成】 一般式(-SiR1R2-C≡C-C≡C-)a(R1及びR2はアルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アリーロキシ又はハロゲン、aは2以上の整数)の含ケイ素ポリマーと1,2,4,5-テトラキス(ジ低級アルキルシリル)ベンゼンとを白金化合物の存在下反応させて、一般式(R1及びR2は前記と同じ意味をもち、k≧1、m≧0、n≧0、k+m=a、k+n=aを満たす整数、R5は低級アルキル)の含ケイ素ポリマーを製造する。該ポリマー中、一般式(式中のR3及びR4は、炭素数1〜12のアルキル又は炭素数6〜24のアリール、r≧1、s≧0、t≧0、300≧r+s≧2、300≧r+t≧2を満たす整数)の含ケイ素ポリマーは新規である。【効果】 新規含ケイ素ポリマーは、耐熱性材料、特にエンジニアリングプラスチックとして、またプレセラミックスや導電性材料として有用。

請求項（抜粋）：

一般式(-SiR1R2-C≡C-C≡C-)a(式中のR1およびR2はアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基またはハロゲン原子の中から選ばれる、互いに同一もしくは相異なる1価の基、aは2以上の整数である)で表わされる含ケイ素ポリマーと1,2,4,5-テトラキス(ジ低級アルキルシリル)ベンゼンとを、白金化合物の存在下に、反応させることを特徴とする、一般式【化1】(式中のR1およびR2は前記と同じ意味をもち、k、mびnはそれぞれ、k≧1、m≧0、n≧0、k+m=a、k+n=aを満たす整数、R5は低級アルキル基である)で表わされる含ケイ素ポリマーの製造方法。

IPC (4件)：

C08G 77/60 NUM ,  H01B 1/06 ,  C07F 7/08 ,  C07F 7/18