特許

J-GLOBAL ID：200903063520487112

オゾン溶解水の製造装置

発明者： 森田 博志 ,  太田 治 ,  水庭 哲夫 ,  塚本 和巳
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119939
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308815
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】超純水製造装置において紫外線照射装置の運転条件を微妙に制御することなしに、オゾンの水中における分解速度が小さく、オゾン溶解水を長距離送給しても、送給中におけるオゾン濃度の低下が少ないオゾン溶解水を製造することができるオゾン溶解水の製造装置を提供する。【解決手段】紫外線照射装置を備えた超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された超純水にオゾンを溶解するオゾン溶解装置とを有するオゾン溶解水の製造装置であって、紫外線照射装置とオゾン溶解装置との間に、酸化還元触媒を充填した反応部を設けてなることを特徴とするオゾン溶解水の製造装置。

請求項（抜粋）：

紫外線照射装置を備えた超純水製造装置と、該超純水製造装置で製造された超純水にオゾンを溶解するオゾン溶解装置とを有するオゾン溶解水の製造装置であって、紫外線照射装置とオゾン溶解装置との間に、酸化還元触媒を充填した反応部を設けてなることを特徴とするオゾン溶解水の製造装置。

IPC (5件)：

B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 647

FI (5件)：

B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (18件)：

4D050AA01 ,  4D050AA05 ,  4D050BB02 ,  4D050BC04 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA15 ,  4G035AA01 ,  4G035AE05 ,  4G035AE19 ,  4G042CA03 ,  4G042CE01