特許

J-GLOBAL ID：200903063526362273

X線トポグラフィック装置

発明者： 町谷 芳郎 ,  菊池 哲夫
出願人/特許権者： 理学電機株式会社
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-177743
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014564
出願日： 1997年06月18日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 試料が大型化して回折X線の断面形状の湾曲状態が大きくなる場合でも、空気散乱線がX線フィルムに達することを確実に防止でき、しかも、可変スリットのセッティングの作業性が高いX線トポグラフィック装置を提供する。【解決手段】 X線を発散するX線源Fと、X線源Fから発散するX線の断面形状を制限して試料Sへ導く試料前スリット部材1,2と、試料S、X線蛍光板4及びテレビカメラ6を一体的に走査移動させる試料移動装置9と、試料SとX線蛍光板4との間に配置される可変スリット部材3とを有するX線トポグラフィック装置である。可変スリット部材3のスリット形状を、試料Sからの回折X線ビームの形状に対応する湾曲形状に形成することにより、空気散乱線が可変スリット3を通過してX線蛍光板4へ達することを確実に防止する。

請求項（抜粋）：

X線を発散するX線源と、X線源から発散するX線の断面形状を制限して試料へ導く試料前スリット部材と、試料及びX線検出手段を一体的に走査移動させる試料移動手段と、そして、試料とX線検出手段との間に配置される試料後スリット部材とを有するX線トポグラフィック装置において、上記試料後スリット部材のスリット形状は、試料からの回折X線ビームの形状に対応する湾曲形状であることを特徴とするX線トポグラフィック装置。

IPC (2件)：

G01N 23/203 ,  G21K 1/06

FI (2件)：

G01N 23/203 ,  G21K 1/06 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭50-028387
  
• 特公平6-091147
  
• 特開昭54-062883