特許

J-GLOBAL ID：200903063526401481

感光性組成物

発明者： 矢作 公
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361949
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191816
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】吸水性が低く、信頼性が高い絶縁膜を製造し得るポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】[1]キノンジアジド化合物およびノボラック樹脂を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物と、1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物と、キノンジアジド化合物の感光波長よりも短波長の電磁線または熱で酸または塩基を発生する化合物とを含有してなるポジ型感光性組成物。[2]基板上に[1]記載のポジ型感光性組成物を塗布して露光し、露光部を現像した後、未露光部を熱により硬化させることを特徴とする半導体用部材の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

キノンジアジド化合物およびノボラック樹脂を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物と、1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物と、キノンジアジド化合物の感光波長よりも短波長の電磁線または熱により酸または塩基を発生する化合物とを含有してなることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/004 503Z ,  G03F7/022 ,  G03F7/038 503 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BD03 ,  2H025BD23 ,  2H025BE01 ,  2H025CA48 ,  2H025CB30 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA10 ,  2H096GB01