成膜装置とその方法および表示パネルの製造装置とその方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：角田芳末 , 磯山弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-374244
公開番号（公開出願番号）：特開2004-204289
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】装置の大型化を防止し、POVPD法および真空蒸着法による膜形成を順次効率良く適切に行う有機ELパネルの製造方法を提供する。【解決手段】成膜装置100においては、基板200はホルダー回転機構113に支持された基板ホルダー112に保持される。有機層形成時には、有機原料容器133の有機材料が原料加熱ヒーター134により加熱気化され、キャリアガスボンベ131からのキャリアガスと混合され、有機ガスノズル138からチャンバー111内に放出され、ガスノズル方向に向けられた基板200の表面に流される。電極層や封止層形成時は、坩堝151の成膜材料が坩堝加熱ヒーター152により蒸発され、鉛直方向下向きに向けられた基板200の表面に流される。1つのチャンバー111内で真空真空吸引状態を維持した状態で、異なる方法による複数の層を形成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部を大気圧以下に保持することが可能なチャンバーと、成膜材料を気化させ、当該気化された成膜材料を含むガスを前記チャンバー内に放出するガス放出手段と、他の成膜材料を蒸発させ、当該他の成膜材料の蒸気を前記チャンバー内に飛散させる蒸発源と、基板を、基板面の向きを変更可能に前記チャンバー内に保持し、前記ガス放出手段から前記ガスが放出される時には前記基板を前記ガスが放出される方向に指向させ、前記蒸発源から前記蒸気が飛散される時には前記基板を前記蒸気が飛散する方向に指向させる基板保持手段とを有する成膜装置。

IPC (4件)：

C23C14/24 , C23C14/06 , H05B33/10 , H05B33/14

FI (4件)：

C23C14/24 S , C23C14/06 Q , H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (15件)：

3K007AB18 , 3K007CA01 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 3K007FA02 , 4K029AA09 , 4K029BA02 , 4K029BA62 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029DB03 , 4K029DB06 , 4K029JA01 , 4K029JA08

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