特許
J-GLOBAL ID：200903063532387512
透明導電膜形成用インク前駆体及びITO透明導電膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-351289
公開番号（公開出願番号）：特開平6-175144
出願日： 1992年12月07日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 基板の大きさ、種類に制限されず、また全工程に要する時間を大幅に短縮できて極めて高い効率で透明導電膜を形成することのできるインク前駆体及びITO透明導電膜形成方法を提供する。【構成】 トリメチル、トリエチル、テトラメチル、テトラエチルのいずれかの有機Inと有機Snとが炭化水素系有機溶剤に混合されてなるITO透明導電膜形成用インク。上記インクを用いて基板に回路を印刷し、この回路基板に紫外線照射して炭化水素系有機溶剤、有機In、有機Snを解離させると同時に紫外線下大気中でIn、Snを酸化させてITO透明導電膜を形成することを特徴とするITO透明導電膜形成方法。
請求項（抜粋）：
トリメチル、トリエチル、テトラメチル、テトラエチルのいずれかの基をもつ有機In及び/又は有機Snとが低沸点低分子量有機溶媒に混合されてなる透明導電膜形成用インク前駆体。
IPC (3件)：
G02F 1/1343
, C09D 11/00 PSV
, H01B 13/00 503
