特許
J-GLOBAL ID:200903063551021367
IC工場用清掃布
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
白井 重隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-249695
公開番号(公開出願番号):特開平7-082647
出願日: 1993年09月13日
公開日(公表日): 1995年03月28日
要約:
【要約】【目的】 有機溶剤の適度な吸収性を有し、繊維屑などの発生も少なく、塵の拭き取り性に優れ、耐薬品性も改善されたIC工場用清掃布を提供すること。【構成】 単糸繊度が0.7〜7.0デニール、酢化度が5〜40%であるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付20〜200g/m2 の不織布を基材として用いる。
請求項(抜粋):
単糸繊度が0.7〜7.0デニール、酢化度が5〜40%であるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付20〜200g/m2 の不織布を基材とするIC工場用清掃布。
IPC (7件):
D04H 3/00
, A47L 13/16
, B08B 1/00
, D04H 3/10
, D04H 3/14
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304 361
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