特許

J-GLOBAL ID：200903063556559942

ポジ型レジスト組成物

発明者： 河田 正司 ,  林 宏 ,  東 広和 ,  加藤 丈佳
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022273
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194312
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 感度・解像度・残膜率・パターン形状に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤(b)およびフェノール類とα,α’-2置換キシレン類との縮合体(c)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤および下記一般式(I)で表される構造単位を有するフェノール化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1〜R3は、互いに独立に水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可アルケニル基、置換可アルコキシ基、置換可アリール基である。R4〜R11は、互いに独立に水素原子、置換可アルキル基、置換可シクロアルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基である。)

IPC (3件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027