特許

J-GLOBAL ID：200903063564834600

ローラの製造方法

発明者： 石見 公一 ,  丹羽 英之 ,  井上 完治
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-227055
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069163
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、ローラの表面に汚染物質を残留せずにその表面状態を精度良く加工できるローラの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のローラの製造方法は、少なくとも弾性層を有するローラの製造方法において、前記弾性層を構成する材料のガラス転移温度がTg(°C)であるとき、T(°C)≦(Tg+30)で表される温度T(°C)で該弾性層の表面を研磨することにより、上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

少なくとも弾性層を有するローラの製造方法において、前記弾性層を構成する材料のガラス転移温度がTg(°C)であるとき、下記関係式(1)で表される温度T(°C)で該弾性層の表面を研磨することを特徴とするローラの製造方法。T(°C)≦(Tg+30) ...(1)

IPC (2件)：

G03G 15/08 501 ,  G03G 15/16 103

FI (2件)：

G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/16 103