チタニアドープ溶融シリカ極紫外線リソグラフィー用ガラス基板

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：柳田征史 , 佐久間剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-585343
公開番号（公開出願番号）：特表2005-507353
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】チタニア前駆体(18)およびシリカ前駆体(6)が、マニホールド(14)内で混合され、バーナ(28)に供給されて、スート(40)が形成される。このスートは、回転され上昇させられる堆積面(34)上に堆積される。最終生成物は、極UVリソグラフィーにとって有用である。

請求項（抜粋）：

EUVリソグラフィー用ガラス基板を製造する方法であって、シリカ前駆体とチタニア前駆体の混合物をバーナに供給することにより、シリカとチタニアの粒子を合成し、前記バーナに対して堆積面を回転させ、平行移動させながら、前記粒子を該堆積面上に連続的に堆積させることにより、多孔質プリフォームを成長させ、前記多孔質プリフォームを緻密なEUVリソグラフィー用ガラスに固結し、該固結した緻密なEUVリソグラフィー用ガラスを均質なEUVリソグラフィー用ガラス基板に形成する、各工程を有してなる方法。

IPC (7件)：

C03B8/04 , C03C3/06 , C03C3/076 , G02B1/00 , G03F1/16 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (9件)：

C03B8/04 A , C03B8/04 J , C03B8/04 P , C03C3/06 , C03C3/076 , G02B1/00 , G03F1/16 A , G03F7/20 503 , H01L21/30 531M

Fターム (77件)：

2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BB27 , 2H095BC08 , 2H095BC11 , 2H095BC21 , 2H097CA15 , 2H097LA10 , 4G014AH15 , 4G014AH21 , 4G062AA04 , 4G062BB01 , 4G062DA07 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FB01 , 4G062FB02 , 4G062FB03 , 4G062FB04 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062MM27 , 4G062NN01 , 4G062NN34 , 4G062NN35 , 5F046GD05 , 5F046GD06 , 5F046GD16 , 5F046GD19 , 5F046GD20

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